Microprocesadores: La carrera por construir la máquina más compleja del mundo ha comenzado. (Pero derrocar a ASML no será fácil)

Resumido del original de The Economist Science & Technology del 5 de Marzo de 2025

Eindhoven, una tranquila ciudad holandesa, alberga la sede de ASML https://www.asml.com/ , la única empresa que fabrica las herramientas litográficas necesarias para producir chips de IA avanzados.
Su última máquina, un coloso de 150 toneladas valorado en 350 millones de dólares, se encuentra en el centro de una batalla tecnológica global.
Estados Unidos ha prohibido a ASML vender sus equipos más avanzados a China, que responde invirtiendo en alternativas locales.
Mientras tanto, Canon https://global.canon/ busca desafiar el dominio de ASML con una tecnología más sencilla y económica.
La litografía óptica de ASML utiliza luz ultravioleta extrema (EUV) para imprimir circuitos en obleas de silicio con una precisión nanométrica.
Para lograrlo, dispara 50.000 gotas de estaño fundido por segundo en un vacío, generando plasma a 220.000 °C, que emite luz EUV.
Esta se refleja en espejos ultra precisos y proyecta patrones sobre las obleas, permitiendo la producción de cn transistores de hasta 8 nm.

Las máquinas de ASML son esenciales para fabricantes como TSMC, Samsung e Intel.
Su dominio en la litografía de alta gama se debe a décadas de innovación y a una cadena de suministro compleja. Sin embargo, el costo y la creciente demanda de mayor precisión presentan desafíos.
Su próximo avance, la hiper-apertura numérica (hiper-AN), busca reducir aún más el tamaño de los transistores, aunque con un precio aún mayor y mayores requerimientos energéticos.
China, sin acceso a la tecnología más avanzada, busca optimizar sus equipos más antiguos y desarrollar su propia litografía EUV.
Sin embargo, replicar la capacidad de ASML requiere avances en múltiples disciplinas y una red de proveedores especializados, lo que hace improbable que logre igualarla en el corto plazo.

Canon, por otro lado, apuesta por la litografía por nanoimpresión (N del T NIL, por sus siglas en inglés: nanoimprint lithography), que estampa patrones de circuitos directamente sobre las obleas. Aunque más económica y compacta, presenta desafíos en alineación, defectos y velocidad de producción. Actualmente, es utilizada en pantallas y chips de memoria, pero aún no puede competir con la escala y precisión de ASML en la fabricación de chips lógicos.

El futuro de la tecnología de chips dependerá de quién logre superar estos desafíos. ASML sigue siendo el líder indiscutido, pero la innovación en litografía por nanoimpresión y los esfuerzos de China podrían redefinir el panorama de la fabricación de semiconductores.

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